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管式爐CVD原理供氣系統(tǒng)

管式爐CVD原理供氣系統(tǒng)CVD(ChemicalVaporDeposition）原理CVD(ChemicalVaporDeposition,化學(xué)氣相沉積），指把含有構(gòu)成薄膜元素的氣態(tài)反應(yīng)劑或液態(tài)反應(yīng)劑的蒸氣及反應(yīng)所需其它氣體引入反應(yīng)室，在襯底表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成薄膜的過(guò)程。在超大規(guī)模集成電路中很多薄膜都是采用CVD方法制備。經(jīng)過(guò)CVD處理后，表面處理膜密著性約提高30%，防止高強(qiáng)力鋼的彎曲，拉伸等成形時(shí)產(chǎn)生的刮痕。CVD特點(diǎn)淀積溫度低，薄膜成份易控，膜厚與淀積時(shí)間成正比，均勻...

如何選擇箱式高溫爐的變壓器？

箱式高溫爐在升溫進(jìn)程中發(fā)熱體電阻的改造太大，所以須要在箱式爐和電力網(wǎng)之間設(shè)備臺(tái)電阻爐變壓器，以降低和調(diào)度電爐的輸入電壓。電弧爐變壓器給用于鋼鐵練習(xí)的電弧爐供電的變壓器。箱式高溫爐的溫度操控，即是根據(jù)實(shí)踐溫度與設(shè)定溫度的誤差，改動(dòng)爐子的加熱功率，使?fàn)t子溫度在設(shè)定溫度規(guī)模以內(nèi)，滿意加熱技術(shù)請(qǐng)求。加熱功率的巨細(xì)決議了爐子溫度的大小和升溫速度的快慢，加熱功率的穩(wěn)定性決議了電阻爐溫度的穩(wěn)定性。改動(dòng)加熱功率的辦法許多，多見(jiàn)的有位式、晶閘管調(diào)節(jié)器和電爐變壓器操控方法等，選用何種加熱方法由爐...

1700℃大型智能體馬弗爐

1700℃大型智能體馬弗爐產(chǎn)品概述：奧菲達(dá)儀器大型智能體馬弗爐溫控系統(tǒng)與爐體集成在體，結(jié)構(gòu)緊湊，外形美觀大方，操作方便，使用穩(wěn)定可靠；爐膛采用新型陶瓷纖維材料，升溫快、保溫好、輕質(zhì)節(jié)能；產(chǎn)品采用智能控制，以微處理器作為控制中心，PID控制算法和自適應(yīng)控制技術(shù)，能夠智能控制預(yù)加熱溫度。液晶顯示屏，全中文顯示數(shù)據(jù)和進(jìn)程。觸摸鍵盤(pán)輸入，具有自動(dòng)程序和自選程序，用戶可根據(jù)需要分別設(shè)定30段時(shí)間控制進(jìn)程。爐體采用碳鋼或不銹鋼制造，表面采用靜電噴涂且雙層爐體結(jié)構(gòu)，與傳統(tǒng)馬弗爐相比，節(jié)能節(jié)...

1200℃快速升溫箱式電阻爐

1200℃快速升溫箱式電阻爐產(chǎn)品概述：采用摻鉬合金電阻絲為加熱元件，適合于對(duì)加熱速度特別要求的燃燒實(shí)驗(yàn)。全輻射加熱部件嵌在兩側(cè)和頂部，堅(jiān)固低熱質(zhì)隔熱材料，硬質(zhì)、無(wú)塵、陶瓷爐膛底面，強(qiáng)加熱功率和低熱質(zhì)材料，并溫度均勻性、加熱效率和溫度控制度等特性。快速升溫馬弗爐打開(kāi)爐門后爐膛降溫快，免輻射線繞元素和組合。該款箱式爐各項(xiàng)指標(biāo)均達(dá)到了水平，主要應(yīng)用于院校實(shí)驗(yàn)室、工礦企業(yè)實(shí)驗(yàn)室，供化學(xué)分析、物理測(cè)定以及金屬、陶瓷等的燒結(jié)和溶解，應(yīng)用于電子元件、粉末冶金、磁性材料等產(chǎn)品的排膠、預(yù)燒和燒...

智能管式爐程序控制設(shè)置操作方法

智能管式爐程序控制設(shè)置操作方法1、智能管式爐按紅色按鈕，打開(kāi)電源，紅色按鈕變亮，儀器面板有示數(shù)，紅色數(shù)字在50內(nèi)，綠色數(shù)字跳動(dòng)在數(shù)字和END上。3、按，進(jìn)入程序，紅色顯示C-01，設(shè)置溫度，該溫度為起始溫度，設(shè)置在室溫附近25℃左右，設(shè)置完成。4、按，面板顯示t-01，設(shè)置升溫時(shí)間，該時(shí)間為從設(shè)置的C-01溫度升高到C-02所需要的時(shí)間。注意，每段升溫速率不得超過(guò)10℃每分鐘。5、按，面板顯示C-02，設(shè)置目標(biāo)溫度，該溫度為你di段時(shí)間升高的目標(biāo)溫度。6、按，面板顯示t-02...